光刻中承上启下的半导体掩膜版

  产业中，除了***等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的重要的条件。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形

  掩膜版的精度、尺寸乃至瑕疵，都会对光刻这一流程的结果造成影响。正因如此，掩膜版成了的重要上游材料之一，哪怕其并不可能会出现在终端产品之上。就连与之配套的Mask Writer设备、防护膜等，也都是不小的产业。

  不过对于大部分晶圆厂来说，他们确实更倾向于自制掩膜版，成熟工艺的掩膜版再转向第三方采购。那么国产第三方半导体掩膜版厂商和国际大厂的现状如何，我们不妨拿两家代表性厂商对比一下。

  作为全球最大的第三方掩膜版厂商之一，Photronics是目前少数几家目前能够给大家提供先进工艺所需掩膜版的厂商之一，甚至慢慢的开始提供EUV掩膜版产品。其二元OPC掩膜版已能支持到14nm到28nm的工艺节点，而PSM相移技术的加入，进一步提升了图形曝光分辨率，使其得以突破14nm，乃至提供5nm及之后节点的EUV掩膜版。

  哪怕是在半导体行业有所萎靡的当下，Photronics依然在第二季度创造了业绩记录，其中来自半导体掩膜版的收入同比增长了15%。不过这还是取决于全球晶圆厂在成熟工艺产能扩张上的推进，以及半导体掩膜版的单价有所改善。反倒是28nm以下的高端工艺带来的需求有所下滑，不过结合不少亚洲晶圆厂的高端工艺产能利用率情况去看，也就不意外了。

  值得注意的是，根据其最新的财报会议透露的内容，Photronics慢慢的开始在今年第二季度出货他们的首个EUVDRAM掩膜版了，所以对于美光、三星等客户来说，选择Photronics的概率一下就变大了。

  虽然从营收总额来看，国内清溢光电和路维光电两家上市企业占大头，但从营收占比的角度来看，相较这两家这样更加专注在平板显示掩膜版的企业，龙图光罩则专注于精度要求更高且毛利率更高的半导体掩膜版。从其营业收入就能够准确的看出，最近三年龙图光罩的营收年复合增长率达到了75.09%，去年营业收入也达到了1.61亿元，来自半导体掩膜版的收入占比高达85.44%。

  相对国际大厂来说，目前的龙图光罩主要专注于特色工艺的半导体掩膜版制造。从其现有工艺水平来看，龙图光罩在国内已达到了领先水平，能够给大家提供130nm工艺节点所需的掩膜版。得益于这一技术突破，龙图光罩已能为IGBTMOSFET射频器件等产品的制造提供掩膜版，也因此收获了中芯集成、士兰微、比亚迪等一系列客户。

  从其招股书中的募集资金投资项目来看，龙图光罩将专心发展高端半导体掩膜版的制造和研发，比如对KrF和ArF掩膜技术的攻关等。这也代表着龙图光罩开始朝更高的半导体工艺进发，从而加速实现国产替代。

  显而易见，目前半导体掩膜版市场主要玩家还是欧美与日本公司，国产厂商目前还是主要在成熟工艺可用的掩膜版上发力，甚至落后于国内目前的晶圆制造工艺。但在全力发展半导体制造业的背景下，国产厂商仍在推动更先进工艺下的掩膜版制造。

  比如龙图光罩就计划在未来继续深耕特色工艺，实现最高65nm的工艺节点的掩膜版量产，并逐渐开始实现模拟芯片、MCUDSP和CIS芯片所用掩膜板的替代。哪怕是半导体掩膜版营收占比不高的清溢光电，也已经在开展130nm-65nm半导体芯片掩膜版的研发，甚至慢慢的开始规划28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发。由此看来，半导体掩膜版的国产替代虽然道阻且长，但依然前景广阔。