PCVD镀膜有哪些类型

  等离子体化学气相堆积(PCVD)在电力的激起输入方法上有外部、内部感应耦合方法两种；从出产的悉数进程作分类的话，可分为批量式的、接连式以及半接连式等几类，下面别离做PCVD镀膜的类别介绍：

  这种方法类似于离子镀膜、溅射镀膜等运用等离子体的工艺，它在PCVD设备内部通入大气时，器壁就会对水蒸气等杂质进行吸附，在等离子体效果之下，这些吸附杂质会沾污、解吸等离子体，导致发生对膜层质量较大的负面影响。所以PCVD真空设备更易遭到污染，因而十分有必要使反响器处于较安稳高线）批量式

  反响器中以平行相对的方法安置尺度为ø650mm的电极，用反响器外面的加热器加热基材至350ºC的高温，运用磁旋转设备进行旋转。基材与高频电极间约有50mm的间隔，在基板中心有反响气体向四周活动，由基材下面的四个排气口排走废气。由50RHz的高频电源激起等离子体，以500W的功率保持放电。

  是由装料室、卸料室、堆积室等三个部分构成的PCVD接连性出产设备。其间，五个反响器组成堆积室，选用外部感应耦合方法来进行等离子激起。自动化出产可通过对工艺进程的操控来完成。该类型设备的长处是，反响器有较会集的功率，运用Si气体浓度较低就能取得堆积速度较高，并且安全高。

  在石英管的外侧绕上高频线圈，接上供气体系抽气，体系就组成了反响器。高频线圈从外部把高频电力输给反响器中的气体，发生等离子体。

  PCVD镀膜设备在制备非晶硅膜或SiN᙮膜中，薄膜的电学功能、内应力等功能特别大程度上均取决于氢含量的多少，以此，在薄膜堆积进程中必需要分外留意防止设备被污染。本文由真空镀膜设备厂家广东振华科技发布。